露光, 学習記録

学習記録(10/14/2018 – 10/20/2018)

ビデオ視聴

・2784_人工知能を超えるために(1)
・2786_人工知能を超えるために(2)
・2787_人工知能を超えるために(3)
・2789_人工知能を超えるために(4)
・2791_人工知能を超えるために(5)
・2790_お金で時間を買うという発想
・2785_読書術

対訳

・露光装置関連

その他

・半導体・リソグラフィ関連の書籍読み
・日本語明細書読み

ーーーーーーーーーーーーーーー

「パターニングデバイスを、能動的に曲げる」???

2018-10-20-question.jpg

今回の疑問はこちらです。

“to actively bend the patterning device”

 

 


【原文】

Additionally, the support structure MT may comprise a patterning device holder, a mechanism and/or a stage body that enable to actively bend the patterning device MA.

【公開訳文】

更に、支持構造MTは、パターニングデバイスMAを能動的に曲げることを可能にするパターニングデバイスホルダ、機構及び/又はステージ本体を備えることができる。


【図】

2018-10-13-露光装置

これまでの流れから、「パターニングデバイス」は、「パターン転写用の原版」と分かりました。

ということは、「パターニングデバイスホルダ」が、「マスクホルダ」と同じような意味で使われていると想像できます。

 

疑問

しかし、どうしてターニングデバイスMAを能動的に曲げる必要があるの?との自問をしても、答えられませんでした。

 

いろいろと検索しましたが、明確な答えが見つからず、どうしようかと思っていたところ、明細書内の一文に目が留まりました。


【原文】

Such a support structure MT is disclosed in the US patent applications publication No. US2013/0250271 AI and US 20167001 1525 A I , hereby incorporated by reference.

【公開訳文】

そのような支持構造MTは、米国特許出願公報US2013/0250271A1号及びUS2016/0011525A1号に開示されている。これらは引用により本願にも含まれるものとする。


そうか、引用されているのなら、その特許を調べればいいんだ。

 

ということで、引用されている特許を見つけ出し、その明細書内でみつけた一文がこちらです。


US20130250271A1

Title: Stage assembly with secure device holder

The light directed at the reticle can cause thermal distortions to the reticle. Thus, it is often desired to bend the reticle to correct for the thermal distortions.


日本語の明細書も探しましたが、この特許自体のステータスが “abandoned”になっていたせいか、見つけることができませんでした。

しかし上記の英語原文からでも、

露光が原因でレチクルに熱歪みが生じる恐れがあり、この熱歪みを補正するためにもレチクルを曲げることが望ましい

ということが分かります。

 

また、対訳中の明細書の先まで読み進むと、下記の文章が出てきました。


【原文】

Optical properties of an aerial image (i.e., an aerial image of a pattern projected onto the substrate W) may be controlled by actively bending a transmissive mask, a transmissive reticle, or a reflective mask.

【公開訳文】

空間像(すなわち、基板W上に投影されたパターンの空間像)の光学特性は、透過マスク、透過レチクル、又は反射マスクを能動的に曲げることによって制御することができる。


ここに、マスクやレクチルを曲げることで、光学特性を制御することができると書かれていました。

 

疑問の答え

レチクルに光を当てることで、熱歪みが生じる恐れがある

この熱歪みを補正するためにも、レクチルを曲げられるようにすることが望ましい

マスクやレチクルを曲げられるマスクホルダ/メカニズム/ステージ本体を持つ支持構造にすることで、パターンの空間像をコントロールできる

上記の疑問に関しては、自分なりに答えが出せたと思います。

 

補足

実は、明細書内で、このすぐ前に書かれていた文章というのが、こちらになります。


【原文】

The patterning device MA may be referred to as a mask or a reticle.

【公開訳文】

パターニングデバイスMAは、マスク又はレチクルと呼ぶことができる。


じゃあ、なんでこの明細書は、「パターニングデバイス」などと記載をせずに、最初からマスクやレチクルと称さないんだ?

「代替的にマスクやレチクルと呼ばれる」とわざわざ記載する意味は何なんだ?

と、変なところで疑問が残りました。

 

ここまで理解するのに、検索でかなりの無駄打ちをしましたが、検索中にいろいろな知識が得られたので、結果オーライだと思っています。

 

今回学んだことは2つ。

1.明細書はざっとでもいいから、最初に全て読んでおく。同じ明細書内にいろいろとヒントは転がっている(こともある)。

2.引用されている明細書にも目を通した方が、流れがつかみやすい。


 

今日の一言

才能というもののいちばんのサポーターは、時間と生き方だと思う

斉須政雄

 

 

 

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